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各类赛事光刻机在ARF的期间，其实全球光刻机的领头羊是日本的尼康，领受的是193nm干式光刻机，那时除了尼康，另一家企业佳能亦然光刻机的年老之一。

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由于新手艺已出来，日本厂商产生不对，部分企业念念用165nm的光源，以提高分辩率。但是这项手艺一直难以冲破。此时林本坚指出，往时的光刻机的弁言物资是空气，淌若用水行为弁言物资，那么不错期骗水的折射不错灵验提高分辩率，甚而比165nm的分辩率更高。但尼康、佳能对这种主张不伤风，依然固握前行。

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那时AS­ML如故光刻机业内的小企业，永恒被大佬压制。为了寻求更大的发展，AS­ML 决心拼一把。于是他们念念到了建议新点子的林本坚，又找到林供职的台积电。他们和台积电张开配合，研发制造了以水为介质的浸润式光刻机。从此，光刻机升级换代，而AS­ML也不仅置身于业界年老之列，况兼随脱手艺束缚纯熟，阛阓束缚拓展，邋遢成为全球惟一无二的光刻机掌握者。

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日本厂商这边固握己见，似乎要把骄横进行到底。尼康只制造以光为弁言的光刻机，居品后果明显不如新一代浸润式光刻机，于是邋遢被阛阓放置，以至于被淘汰。其后AS­ML还造出了EUV光刻机，手艺愈加高端先进。而尼康、佳能濒临如斯稠密的敌手，不得不认输，退出了光刻机的阛阓竞争。

但是奇妙的是，固然尼康在国外光刻机阛阓隐遁多年，甚而令全球王人差点健忘了这个还是的业界年老。但近期的一则音尘称，尼康也研发出约略量产的7nm的浸润式光刻机，便是DUV中的AR­FI光刻机。而这款光刻机是AS­ML的主流居品。

至于佳能则独辟门道，选拔了另一条谈路，正究诘纳米压印（NIL），期盼以这项崭的新手艺对AS­ML的市容貌位达成颠覆。NIL手艺是在一个非常的“图章”上，先刻上纳米电路图案，然后再将电路图案“压印”在晶圆上，就像盖印相通。由于NIL没镜头，是以比EUV的老本更便宜。

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当今佳能已研发出NIL建立，并与日本内存厂商铠侠配合，铠侠认真内存芯片的制造。固然当今居品的分辩率仍不太理念念，但佳能对此项手艺充满信心，合计最高可达到5nm的分辩率。2022年佳能的光刻机交易收入达成较大幅度增长， 他们也示意要为NIL手艺研发和居品制造给以更多参加。

跟着尼康佳能的回顾，光刻机的阛阓也许会迎来罕见热烈的竞争。固然日本厂商和荷兰的AS­ML，手艺水平常面已较为接近。但手艺自主权方面，日本厂商和荷兰的AS­ML明显不同。尼康、佳能的光刻机手艺，即便需要外部手艺和零部件，亦然少许或部分的，基本上属于自主研发，不错自主结果。而AS­ML的光刻机，无论是手艺研发回是量产制造，王人很猛过程地依赖于好意思国，穷乏扫数自主结果的权益。